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代理日本品牌:OTSUKA大塚電子(薄膜測厚儀、偏光片檢測、納米粒度分析儀、ZATA電位儀、相位差膜·光學材料檢查設備、液晶層間隙量測設備等)、東機產業(粘度計)、CCS(視檢查光源)、Aitec(視檢查光源)、REVOX萊寶克斯(視檢查光源)、EYE巖崎(UV汞燈)、索尼克(風速計、流量計等)、坂口電熱(加熱器、制冷片)、NEWKON新光(針孔機)、富士端子(各種形狀端子,料多可定制)、NS精密科學(柱塞泵、高壓耐腐蝕防爆泵)

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產品詳情
簡單介紹:
FPAR-1000
OTSUKA大冢- 濃厚系顆粒直徑系統
從稀薄系到濃厚系,在廣泛的濃度區域中的粒子直徑測量
*適合分析膠體分散液和拉拉力的分散狀態。
OTSUKA大冢- 濃厚系顆粒直徑系統FPAR-1000OTSUKA大冢- 濃厚系顆粒直徑系統FPAR-1000OTSUKA大冢- 濃厚系顆粒直徑系統FPAR-1000
詳情介紹:
OTSUKA大冢- 光纖光學動態光散射光度計FDLS-3000
OTSUKA大冢- 濃厚系顆粒直徑系統
從稀薄系到濃厚系,在廣泛的濃度區域中的粒子直徑測量
*適合分析膠體分散液和拉拉力的分散狀態。
特長:
OTSUKA大冢- 濃厚系顆粒直徑系統FPAR-1000OTSUKA大冢- 濃厚系顆粒直徑系統FPAR-1000OTSUKA大冢- 濃厚系顆粒直徑系統FPAR-1000OTSUKA大冢- 濃厚系顆粒直徑系統FPAR-1000OTSUKA大冢- 濃厚系顆粒直徑系統FPAR-1000
從稀薄的溶液到濃厚溶液,可以測量在廣泛的濃度范圍內的高速、高精度的粒子徑、粒子直徑分布(粒徑、粒徑分布)。
在研究·質量管理的廣泛用途上使用微粒子特有的分散、凝集過程的功能等。
根據新開發的測量程序,對應于濃厚溶液中高精度的粒子直徑測量。
將樣本溫調、超聲波洗凈等所有必要的功能全部內置的A3尺寸的緊湊設計。
測定項目
粒子徑 |
3 nm ~ 5000nm |
1 nm ~ 5000nm (高感度仕様) |
キュムラント平均粒子徑 ヒストグラム平均粒子徑(D50)(高感度仕様) |
分布解析 |
CONTIN法 MARQUARDT法 NNLS法 CUMULANT法 |
対応濃度範囲 (標準ラテックス 204nm の場合) |
0.001 ~ 10 % |
濃厚系プローブ(標準) 0.01 ~ 10 % |
希薄系プローブ(オプション) 0.001 ~ 0.01 % |
応用分野
- 色材工業における顔料?インクの分散?凝集制御?粒子徑管理。
- セラミックススラリーの分散?凝集制御、分散剤効果
- 半導體分野の研磨粒子の粒子徑管理
- 高分子?化學工業におけるエマルジョン、ラテックスの分散凝集制御、粒子徑管理
- 醫薬品?食品エマルジョンの分散?凝集制御、リポソームなどの粒子徑管理
- 光觸媒(酸化チタン)粒子の分散狀態管理
仕 様
光源 | 半導體レーザー | |||
検出器 | 光電子増倍管(フォトンカウンティング方式) | |||
サンプル溫調範囲 | 10 ~ 70℃ | |||
溫調方式 | 電子式冷卻素子、ヒーター | |||
プローブ洗浄方式 | 超音波洗浄 | |||
電源 | AC100V ± 10%50/60Hz 300VA | |||
寸法(WDH) | 320(W)×507(D)×284(H) | |||
重量 | 約 22 kg |
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